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半導體晶體生長系列
· 氮化鎵晶體生長室（高溫高壓鈉流法）
用途：
主要用于不銹鋼、銅合金、高溫合金、鈦合金、硬質合金、金屬陶瓷等材料的真空釬焊，適用釬料為鎳基、銅、銀基等。
優(yōu)勢與特點：
新型加熱室結構，加熱更均勻，損耗功率小，更節(jié)能。
爐門配有獨特密封結構，確保正負壓雙方向密封。
冷卻方式多樣性，可供選擇。
可選項：
1、周期式
2、連續(xù)式
目前該設備已形成系列化產(chǎn)品，可根據(jù)客戶實際需求定制。
地址：沈陽市大東區(qū)萬柳塘路2號
傳真：024-24809927
Email：yb@sy-vac.com
網(wǎng)址：m.metonpress.com
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